禁速度快，而且质量高，还无电磁污染。
但是，由于喷射等离子体的速度场合温度场不均匀，使其沉积范围内膜厚不均，会呈梯形分布。
在沉积速度过快时，膜的表面不平整，就会大大降低膜的致密度。
看到这，陈舟古怪的笑了笑：“看来，太快了也不好……”
但是整体来说，这种方法还是很有研究潜力的。
陈舟在草稿纸上做着记录，并把自己的想法记在一旁。
把DAPCVD法的相关文献看完后，陈舟右手滑动鼠标，点开了一个新的PDF文件。
最后一个制备方法。
微波等离子体CVD法，也就是MPCVD法。
是四十三所所采用的的方法。
也是陈舟查这么文献的目的。
和DAPCVD法被报道的时间，仅相隔一年。
这也是目前用于沉积金刚石薄膜最为广泛的方法。
这种方法最先是通过一种轴向的天线耦合器，将2~5W的矩形微波进行导转换，在大气压下形成等离子体。
而高压等离子体就会由耦合器的“针孔”处喷射到水冷的样品台上，继而形成金刚石薄膜。
和DAPCVD法使用的气源相同，主要是氩气，反应气体是甲烷和氢气。
现如今，这种方法已经形成了多种形式。
不过不管是按真空室的形成来分的石英管式、石英钟罩式和带有微波窗的金属腔体式，还是按微波与等离子体的耦合方式来分的表面波耦合式、直接耦合式和天线耦合式。
它们的沉
第226章 如果有这一半的速度，再加上这质量…(3/5)